水淹没的档口。 一则来自苏北华芯的官方公告，却如同一声春雷，将所有浅薄的娱乐喧嚣震得粉碎。 华芯官方宣布： 经过皓锋集团与金陵大学联合研究院不眠不休的刻苦攻关，我国在半导体核心原材料领域取得了历史性的重大突破！ 成功研发出了拥有自主知识产权的ArF氟化氩浸没式光刻胶！ 并且，金陵的科研团队一举攻克了行业公认的壁垒： 正胶负显影PTD工艺！ 这几个专业而生涩的学术名词，对于普通大众而言或许如同天书。 但公告最后用红字标注的那行总结，却让每一个东大人都看懂了它那沉甸甸的含金量： 【该工艺的突破，意味着我国自主研发的国产芯片，自此拥有了向14纳米先进制程芯片发起冲击的资格！...

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